萊特萊德·環(huán)境
在集成電路、分立器件和其他半導體產(chǎn)品中,半導體材料是半導體產(chǎn)業(yè)鏈上游環(huán)節的重要組成部分,起著(zhù)關(guān)鍵作用。在半導體相關(guān)基礎設施建設周期長(cháng)、技術(shù)要求高的情況下,企業(yè)必須制定一套長(cháng)遠的策略,以建立良好的設計和制造能力。某些細分領(lǐng)域的公司競相開(kāi)發(fā)新工藝,逐鹿半導體行業(yè)市場(chǎng)。要推動(dòng)數字化革命,就必須有更強大的計算和存儲能力,換句話(huà)說(shuō),就是芯片的制造,而芯片制造的基礎就是采用更高的水質(zhì),超純水已成為企業(yè)競爭的制勝法寶。
半導體工業(yè)對清潔水的電導率、離子含量、TOC和顆粒物的要求越來(lái)越嚴格。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高,因此半導體行業(yè)的超純水與其他行業(yè)的用水要求不同。半導體行業(yè)對超純水有極其嚴格的水質(zhì)要求。
半導體工業(yè)是超純水應用的主要產(chǎn)業(yè)之一,在半導體加工過(guò)程中,對水質(zhì)要求很高,不含任何離子雜質(zhì)。半導體超純水設備可以有效去除水中雜質(zhì),保證設備出水水質(zhì)。萊特萊德采用雙反+EDI+Huncotte系統組合工藝,出水可達18.2mΩ·cm。
反滲透系統采用反滲透原理,主要去除溶解鹽、有機物、膠體、高分子等,降低水質(zhì)離子含量。EDI是結合離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)的純水制造技術(shù)。它不需要酸堿再生,是一種新的脫鹽方法。EDI無(wú)需回收化學(xué)品,運行成本低,EDI超純水系統自動(dòng)化程度高,可實(shí)現連續運行,出水水質(zhì)良好穩定,出水電阻率高≥ 15mΩ·cm。Huncotte系統用于高純水處理系統的末端凈化器??蓪⑺须x子含量降至ppb級,出水電阻率可達18.2mΩ·cm,為半導體帶來(lái)更好的性能優(yōu)勢。
萊特萊德經(jīng)過(guò)多年實(shí)踐,同時(shí)結合膜分離技術(shù),采用了反滲透和離子交換系統(或EDI)相結合的方法制備超純水,與傳統方法相比,具有運行費用低(離子交換器的再生周期大大延長(cháng)),運行可靠。萊特萊德超純水設備出水水質(zhì)符合美國ASTM D5127電子及半導體業(yè)用純水水質(zhì)TypeE-1.2,高于中國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。從研發(fā)設計、設備制造,到工程施工、運營(yíng)維護,萊特萊德都秉承"科學(xué)創(chuàng )新,以人為本,客戶(hù)至上"的經(jīng)營(yíng)服務(wù)理念,為客戶(hù)提供高質(zhì)量水處理設備。
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